1. 报告题目：氧化钽薄膜制备及其性能研究

报告人：刘晓燕 博士

报告时间：2023年9月15日星期五 14:00

报告地点：知新楼C1104

邀请人：王春明 教授

报告摘要：氧化钽（Ta2O5）由于其带隙宽，在300-8000 nm范围内无吸收，高光折变，高非线性折射率，高三阶非线性系数，高光学损伤阈值等优点，成为理想的非线性光学波导材料。磁控溅射是制备高质量Ta₂O₅薄膜的一种优选方法，但是磁控溅射过程中，由于O的平衡压力高于Ta的平衡压力，O原子容易从Ta₂O₅薄膜中脱离，导致氧空位的形成，影响薄膜的透明度。报告人通过对Ta₂O₅ 成膜机理的研究指导薄膜制备温度、溅射功率的选择，通过退火条件对Ta2O5薄膜氧空位和结晶度的协调关系研究实现氧空位和结晶度的调控，制备出高质量Ta₂O₅ 薄膜。

2. 报告题目：氧化钽介电性能研究

报告人：刘晓燕 博士

报告时间：2023年9月16日星期六 10:00

报告地点：知新楼C1104

邀请人：王春明 教授

报告摘要：氧化钽（Ta₂O₅）在栅极介质中有广阔的应用前景，其对应的微波通讯器件具有高介电常数和低介电损失的特点。虽然对Ta₂O₅介电性能的研究很多，但外部环境变化对Ta₂O₅介电特性和潜在物理特性的研究很少。报告人团队及合作者通过磁控溅射制备了Ta₂O₅薄膜，并采用第一性原理研究了外部环境变化对介电函数的影响。